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真空鉬絲爐

真空鉬絲爐

簡要描述: 真空鉬絲爐用途:適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理,是科研單位、高等院校、工礦企業(yè)理想的實驗和生產設備

  • 生產地址:上海
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-05-12
  • 訪  問  量:3097
詳細介紹

真空鉬絲爐的詳細介紹

真空鉬絲爐具有*的性能設計,集多項于一身,安全性,可靠性,實用性均達*效果。

一、特點及用途

實驗室熱處理爐,底部裝料,操作方便,占地小,真空或充氣兩用。適用于金屬材料高溫燒結、熱處理、脫氣、金屬陶瓷化、粉末燒結、熒光粉等處理。也適用于無機非金屬材料的高溫燒結等處理。還適用于材料的真空釬焊處理。

二、真空鉬絲爐結構說明

1.全不銹鋼結構,外表亞光處理,內部精密拋光處理。

2.底裝料式,操作方便。

3.結構爐體,結構電極,技術。

4.擴散泵+直聯(lián)式機械泵+高真空全不銹鋼擋板閥性能可靠。

5.底部可移動式結構,搬運方便。

6.金屬鉬絲加熱,全金屬隔熱屏,無碳污染問題,*技術使用不變形。

7.極限真空度達到1×10-3Pa

 

 

 GR.VMWF系列真空鉬絲爐型號及規(guī)格

 

型號

爐膛尺寸(mm)

(DxH)

功率

(KW)

zui高溫度

℃)

額度溫度

(℃)

加熱元件

電壓

(V

GR.VMWF8/17

Ф80×100

25

1700

1650

鉬絲

380

GR.VMWF15/17

Ф150×200

30

1700

1650

鉬絲

380

GR.VMWF20/17

Ф200×300

36

1700

1650

鉬絲

380

GR.VMWF30/17

Ф300×400

40

1700

1550

鉬絲

380

 

,咨詢

 

另:我公司可以根據客戶具體要求進行非標設計與制造。

 

 

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